필름 코팅 솔루션에 대한 HPMC의 효과

수성 필름 코팅 기술은 제약 산업에서 현재 관심 대상입니다. 이 기술은 페인트와 접착제 기술 모두에서 전례가 있습니다. 고분자, 표면, 역학, 유변학 등의 응용과학 분야입니다. 코팅의 품질은 필름 코팅 재료에 따라 다릅니다. 따라서 다양한 필름 코팅 재료로 만들어진 필름의 용해도, 투과성, 기계적 및 유변학적 특성을 연구하기 위해 많은 노력을 기울였습니다. 제약 필름 코팅에 대한 연구는 종종 주조 또는 분무 기술로 제조된 자유 필름의 기계적 특성을 조사했습니다. 코팅 용액의 유변학적 특성은 스프레이, 원자화, 확산 및 침투 단계 에 미치는 영향 때문에 필름 코팅 공정에서 중요합니다 (4). Aulton과 동료들은 탄성, 소성 및  압입법에 의한 HPMC 필름의 점탄성 특성(1). 필름 준비 방법(캐스트 및 스프레이 필름)의 효과는 Obara와 동료들에 의해 연구되었습니다(2). 필름의 수증기 투과율 및 기계적 특성(천공 강도 및 연신율)을 중합체 유형 및 점도, 가소제 유형 및 농도의 함수로 조사했습니다(3). 이 조사의 목적은 폴리머 등급과 가소제 분자량이 코팅 용액의 점탄성 거동에 미치는 영향을 조사하는 것이었습니다.

HPMC 등급의 결과 및 논의 효과 여러 등급의 HPMC(E5, E15 및 E50)의 손실 탄젠트를 ω 에 대해 플롯 했습니다. 이 결과는 HPMC E50의 경우 손실 탄젠트가 ω = 6.25(점성 특성)로 증가한 다음 고주파수에서 감소함을 보여줍니다. HPMC E5는 60 ° C 를 제외한 모든 온도에서 점도가 낮기 때문에 이 주파수에서 손실 탄젠트가 감소함을 보여줍니다 (그림 1). 이 온도는 HPMC 열 겔화점(=52 ℃ ) 이상이므로 침전이 발생하고 시스템은 더 높은 점도와 더 높은 손실 탄젠트를 나타냅니다. E5와 E15의 15%(w/v) 용액의 거동 차이는 상대적으로 분자량이 같기 때문에 E5와 E50 용액에서 관찰할 수 있는 것보다 적습니다(그림 2). 스프링(탄성 요소)과 대시포트(점성 요소)의 조합으로 구성된 기계 모델을 사용하면 진동 하에서 코팅 용액의 거동을 가장 잘 이해할 수 있습니다. 높은 주파수에서 스프링은 부과된 전단 하에서 늘어나고 수축할 수 있지만 dashpot은 움직일 시간이 거의 없습니다(5). 따라서 시스템은 본질적으로 계수 G의 탄성 솔리드로 동작합니다. 낮은 주파수에서 스프링도 확장될 수 있지만 이 경우 대시팟은 이동할 충분한 시간이 있으며 확장은 스프링의 확장을 훨씬 초과합니다. 

따라서 시스템은 본질적으로 점도 η 의 점성 유체로 거동 합니다. HPMC 농도의 영향 유변학 데이터 및 필름 코팅 공정의 실제 조건에 대한 근접성에 따라 T = 40 ° C, ω = 6.25 및 f = 1 Hz가 조사를 위해 선택되었습니다. 손실 탄젠트에 대한 HPMC 농도 및 가소제 분자량. 결과는 폴리머 농도가 10%에서 20% w/v로 변경될 때 모든 경우에서 주파수가 증가함에 따라 손실 탄젠트가 증가함을 보여주었습니다. 10, 15, 20% w/v HPMC E5 용액에 대해 각각 0.004278, 0.006923 및 0.009028의 손실 탄젠트 증가가 발견되었습니다. 이는 폴리머 농도가 증가함에 따라 폴리머 용액 네트워크의 더 많은 얽힘 지점과 관련이 있을 수 있습니다. 따라서 고분자 용액은 더 높은 저장 모듈러스, 손실 탄젠트 및 점성 특성을 나타냅니다.

참조  

(1) Aulton ME, Abdul-Razzak MH 및 Hogan   JE . 수성 시스템에서 파생된 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스 필름의 기계적 특성 . 마약   데브. 공업제약 (1981) 7: 649-568  

(2) S 오바라, W 제임스. 준비된 무료 필름의 특성   분무 기술에 의해 수성 폴리머로부터. 프름   lRes (1994) 11: 1562-1567  

(3) C Remunan-Lopez 및 R Bodmeier. 기계 및   다당류의 수증기 투과 특성   영화. 약물 개발 공업제약 (1996) 22: 1201-1209  

(4) S Honary, H Orafai 및 A shojaei.  의 영향  의 분무된 액적 크기에 대한 가소제 분자량 간접적인 방법을 사용하는 HPMC 수용액.   약물 개발 공업제약 (2000) 26: 1019-1024